イノベーションの推進：MKS、Ophir® BeamPeek®の特許で知的財産ポートフォリオを強化

MKSフォトニクスソリューション事業部は、知的財産の宝庫に新たなページを追加しました！オフィール社のBeamPeek™は、最先端のビーム解析およびパワー計測システムで、アディティブマニュファクチャリングの世界に最適です。

BeamPeekは、ビーム径、ウェスト位置、パワー、パワー密度、拡がり角をわずか3秒で正確に測定します。

デザインについて、特許取得済みのデュアルコンパートメント・セットアップが、BeamPeekの実力を支える秘密のソースです。1つのコンパートメントには、高出力レーザービームの本質をとらえるために細心の注意を払って調整された光学センサーが収納されています。通路を挟んでもう一つのコンパートメントには、取り外しと交換が可能なパッシブ冷却ビームダンプトレイがあります。このトレイは、高出力ビームのエネルギーの大部分を吸収し、光学センサースムーズな動作を保証します。

上記に加えて、コンパートメントとコンパートメントの間にあるオプティカルウィンドウが、ビームの一部を通過させ、ビームダンプが残りを吸収します。このスマートなセットアップにより、センサーを損傷から守るだけでなく、厄介な水冷システムやファン冷却システムも不要になります。

さらに、トレイの交換が可能なため、測定セッション間のダウンタイムを最小限に抑えることができます。効率性と革新性の両立といえます。

当社が特許を持つBeamPeekシステムは、アディティブマニュファクチャリングの未来に大いに役立つものと考えます。フォトニクスの世界で可能性の限界に挑戦し続ける私たちの最新情報にご期待ください！

特許の詳細については、こちらをご覧くださいい。