日 程: 1月30日(木)13:05~13:50
場 所: 東京ビッグサイト 西2ホール会場内 プレゼンテーション会場B
主 催: レーザー輸入振興協会(JIAL)主催セミナー
講演名: 「非接触ビームプロファイラによる高出力レーザーのフォーカススポットおよびフォーカスシフト 測定」 -高出力レーザービームプロファイリングと新しい測定技術と非接触分析の仕組み
講演者: マイケル・モズジェチコフ (日本語での講演となります)
株式会社オフィールジャパン ビジネス・デベロップメント部部長
講演概要: 高出力レーザーのビームプロファイリングと新しい測定技術、非接触レーザービームプロファイラの仕組み、レ-ザー光の特性に影響を与えることなくシステム内部を通過するビーム計測、リアルタイム計測、レーザー始動時からの焦点シフトの計測、及び、切削、溶接、積層造形などの工業生産における費用対効果、信頼性の高いレーザープロセスの管理、製造ライン向けの自動化ソリューションについて説明いたします。
費用/登録: 無料
展示会場内での講演となりますので、展示会への来場登録が必要です。
https://jcd-event.smktg.jp/public/application/add/414?lang=ja 聴講申込みは下記からお願いいたします https://unifiedsearch.jcdbizmatch.jp/nanotech2020/jp/sem/aap
皆様、お誘いあわせの上、ご参加をお待ちしております。
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